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Veeco迎双喜:获针对SGL初步禁令,与ALLOS达成合作

2017-11-03 作者: 来源:LEDinside编译 浏览量: 网友评论: 0
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摘要: 昨(2)日,有机金属化学汽相沉积系统(MOCVD)设备大厂美国维易科(Veeco)宣布,美国纽约东区地方法院同意了Veeco公司针对SGL Carbon,LLC(SGL)的一项初步禁令请求,该公司是中微半导体设备有限公司(AMEC)的晶圆承载器供应商。

  昨(2)日,有机金属化学汽相沉积系统(MOCVD)设备大厂美国维易科(Veeco)宣布,美国纽约东区地方法院同意了Veeco公司针对SGL Carbon,LLC(SGL)的一项初步禁令请求,该公司是中微半导体设备有限公司(AMEC)的晶圆承载器供应商。该禁令禁止SGL出售用于采用了Veeco专利技术的无基座金属有机化学气相沉积系统(MOCVD)的晶圆承载器,包括专为AMEC MOCVD系统设计的晶圆承载器。

  Veeco公司董事长兼首席执行官John R. Peeler说:“这项裁决肯定了Veeco知识产权及其全球专利组合的实力。Veeco狠抓知识产权工作,并坚决维护其在研发方面的重大投资,包括其在美国,欧洲和亚洲的专利,特别是在中国。”

  上述裁决立即生效,禁止SGL在未得到Veeco明确授权的情况下出货采用了Veeco专利技术的晶圆承载器。这也意味着禁止SGL提供用于所有AMEC MOCVD系统的晶圆承载器。法院还裁定,尽管SGL有相反的论点,Veeco公司有关“无基座MOCVD反应堆使用的Veeco晶圆载体专利受到SGL的侵犯且该专利有效”的声称得到认同的可能性很大。SGL曾经辩称,其晶圆承载器是基于AMEC的规格。这项裁决显示,AMEC不尊重Veeco的知识产权。在专利案件中,初步禁令是很罕见的,因为在陪审团对专利侵权作出判决之前颁布禁售令有非常严格的法律要求。因此,这一裁决显示了SGL和AMEC侵犯Veeco知识产权的明确性质。

  Veeco于2017年4月12日在纽约东区的联邦法院对SGL Carbon,LLC和SGL Carbon SE展开了专利侵权诉讼。SGL生产用于无基座MOCVD系统的晶圆承载器。除了临时禁令之外,Veeco正在寻求永久性禁令以及经济赔偿等。

  此外, Veeco公司11月1日宣布和ALLOS Semiconductors(ALLOS)达成了一项战略举措,展示了200mm硅基氮化镓晶圆用于蓝/绿光micro-LED 的生产。维易科和ALLOS合作将其专有外延技术转移到 Propel单晶圆MOCVD系统,从而在现有的硅生产线上实现生产micro-LED。

  “使用Propel反应腔,我们就拥有了一项MOCVD技术,这项技术能够实现高产量的GaN外延,满足在200毫米硅生产线上生产micro-LED器件的所有要求,” ALLOS Semiconductor的首席执行官Burkhard Slischka 这样说。

  “不到一个月时间我们就已经在Propel上对我们的技术进行了验证,并且获得了无裂纹、无回熔的晶圆,翘曲度低于30微米,晶体质量高,厚度均匀性优异,波长均匀性小于1纳米。同Veeco携手,ALLOS期待着将该技术在micro-LED产业中更为推广。”

  Micro-LED显示技术由<30x30平方微米的红、绿和蓝(RGB)无机LED组成,这些LED被转化为显示屏背板,以形成亚像素。与有机LED(OLED)和液晶显示(LCD)相比,这些高效的LED直接发射功耗更低,却可以为移动显示器、电视和可穿戴式计算机提供优异的亮度和对比度。Micro-LED 的制造要求优质、均匀的外延晶圆,以满足显示屏的产量和成本控制的要求。

  “和竞争对手的MOCVD平台相比, Veeco的TurboDisc技术提供的制程窗口更大,因此Propel能提一流的均匀性同时还能获得优良的膜品质,”维易科高级副总裁兼MOCVD运营总经理Peo Hansson博士这样说。“将Veeco领先的MOCVD专业技术和 ALLOS的硅基氮化镓外延晶片技术相结合,使我们客户能够开发出低成本的micro-LED,以便于在新的市场中开拓新的应用。”


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